超纯水机中二氧化硅的存在形式及去除方法

超纯水机中二氧化硅的存在形式及去除方法

　　1、水中硅的总量主要包括活性硅和胶体硅。活性硅是可溶硅，因为它是弱离子化的，不会聚合成长链，而活性硅是超纯水处理系统中的理想形态，因为它容易去除，去除率高，一般TDS中都含有活性硅；以盐的形式存在于系统中；胶体硅通常以聚合物的形式存在。RO系统虽然有一定的去除率，但可能会造成RO前段堵塞和胶体污染。胶体硅的最小直径可以小到0.008um，但只有大于0.45um才能用SDI测量。

　　2、二氧化硅是某种形式的阴离子，但其化学成分复杂，甚至不可预测。这里好像TOC含量只能代表有机质含量，不能代表表层有机质组成。硅浓度也是如此
        3、硅浓度的去除率与PH值有很大关系，随着PH值的增加，去除率增加，因为活性硅以盐的形式存在，而不是酸。